CI-XT5100 고정 오염원 VOCs 온라인 모니터링 시스템
모델: CI-XT5100
CI-XT5100 시스템은 전 공정 고온 추출 방식을 사용하여 시료 가스를 채취하며, 가스크로마토그래피-수소 화염 이온화 검출 기술(GC-FID)을 적용하여 고정 오염원에서 배출되는 휘발성 유기화합물(VOCs)을 실시간으로 온라인 모니터링합니다. 또한 제약, 석유화학, 도료, 화학 산업 등 다양한 오염 배출원의 배기가스 내 총탄화수소(Total Hydrocarbons), 메탄(CH₄), 비메탄 총탄화수소(NMHC) 측정에 폭넓게 활용될 수 있습니다.
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해당 제품은 우수한 품질과 높은 신뢰성으로 널리 인정받고 있습니다.
CI-XT5100 시스템은 전 공정 고온 추출 방식을 사용하여 시료 가스를 채취하며, 가스크로마토그래피-수소 화염 이온화 검출 기술(GC-FID)을 적용하여 고정 오염원에서 배출되는 휘발성 유기화합물(VOCs)을 실시간으로 온라인 모니터링합니다.
또한 제약, 석유화학, 도료, 화학 산업 등 다양한 오염 배출원의 배기가스 내 총탄화수소(Total Hydrocarbons), 메탄(CH₄), 비메탄 총탄화수소(NMHC) 측정에 폭넓게 활용될 수 있습니다.
제품은 엄격한 품질 관리 기준에 따라 철저한 검사를 거쳐 출고됩니다.
■ 국제 표준 GC-FID 검출 방식 적용
국제적으로 인정받는 VOCs 검출 표준 방식인 가스크로마토그래피/수소 화염 이온화 검출기(GC-FID)를 적용하였습니다.
높은 감도와 안정적이고 신뢰성 높은 운전 성능을 제공하며, 유지보수가 간편하고 복잡하고 열악한 산업 배기가스 환경에서도 유기성 휘발성 물질을 안정적으로 온라인 측정할 수 있습니다.
■ 전 공정 고온 열추적(Heat Tracing) 설계 적용
전처리 시스템은 고정 오염원 VOCs 온라인 모니터링 기술 요구 사항 및 검출 기준에 부합하도록 설계되었습니다.
샘플링 프로브부터 온라인 가스크로마토그래프까지 전체 구간에 고온 열추적 방식을 적용하였으며, 제습 과정을 생략하여 시료 성분 손실을 효과적으로 방지하고 측정 데이터의 정확성과 신뢰성을 확보합니다.
■ 다양한 VOCs 성분 모니터링 지원
메탄(CH₄), 총탄화수소(THC), 비메탄 총탄화수소(NMHC) 등 다양한 유기성 배기가스를 모니터링할 수 있어 고객의 다양한 요구 사항에 대응 가능합니다.
■ 내식·비활성 재질 적용
배관 내부에 내식성 및 비활성(Inert) 재질을 적용하여 배관 벽면에서 발생할 수 있는 시료 가스 손실을 최소화합니다.
| 고정 오염원 VOCs 측정 사양 (Stationary Pollution Source VOCs) | |
|---|---|
| 측정 대상 | THC, CH₄, NMHC, BETX, VOC 특성 인자 |
| 측정 범위 | 비메탄 총탄화수소(NMHC) : 0-50 / 100 / 200 / 1000 / 5000mg/m³ |
| (범위 설정 가능) | |
| 벤젠계(Benzene Series) : 0-50 / 100 / 200mg/m³ | |
| (범위 설정 가능) | |
| 검출 한계 | <0.8mg/m³ |
| 베이스라인 노이즈 | 2×10⁻¹⁴A |
| 베이스라인 드리프트 | 2×10⁻¹³A / 30min |
| 선형 오차 | ≤±2% |
| 24시간 드리프트 | ≤±3% |
| 정성 반복성 | 1% |
| 정량 반복성 | 3% |
| 분석 주기 | ≤2분 |
| 주입 유량 | 약 20mL/min |
| 장비 알람 | 고장 / 농도 알람 |
| (스위치 출력 옵션) | |
| 샘플링 라인 | 열추적 온도 100~180℃ 조절 가능 |
| 데이터 수집 및 처리 (Data Acquisition And Processing) | |
|---|---|
| 시스템 소프트웨어 | 1채널 LAN |
| 산업용 컴퓨터 | 4채널 USB 인터페이스 |
| 운영체제 | Windows 7 |
| 전원 공급 | AC 220V±22V / (50±1)Hz |
| 소비전력 | <5KVA |
| 사용 환경 온도 | -20~50℃ |
| 상대 습도 | ≤80%RH |
| 온도 (TEMP.) | 압력 (Pressure) | 유량 (Flow Rate) | 습도 (Humidity) | 산소 (Oxygen) |
|---|---|---|---|---|
| 0~400℃ | -5000~5000Pa | 0~40m/s | 0~40%V/V | 0~25% O₂ |
